技术特点及用途
● 系统采用HMG，10kW/2450MHz高稳定程控微波功率源。运用完善的线路安全闭锁控制系统，使该系统工作寿命长，电气性能优良，安全可靠，操作简单方便。
● 微波传输系统由高性能大功率微波环行器，销钉调配器，带反射波取样的水负载以及外部连接波导组成。它确保反射波对磁控管的良好隔离，并能方便地调节最佳匹配，达到微波功率的最佳传输。
● 采用新型大容积椭球型微波反应腔可在很宽的运行范围内把微波功率耦合给等离子体，在其焦点处产生高密度、高电离度、大面积均匀稳定的微波放电。
● 系统主要用途： 1）金刚石等多种薄膜的化学汽相沉积的研究和中试加工；2）基片的刻蚀和灰化；3）作为高密度、宽束离子源；4）低温氧化物的生长；5）等离子体表面处理和其它实验加工。
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技术参数
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产品型号： HMPD
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微波源： HMG
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工作频率： 2450±50MHz
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输出功率： 0.5 ~ 10kW 连续可调
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功率稳定度： 优于±1%
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输出波导接口： BJ-26 带FD-26标准法兰
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输入电源： 380V/50Hz±5% 三相四线
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冷却水流量： /min
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微波反应腔 400x600大容积椭球腔
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微波放电腔： 多端口，带双层水冷
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3）真空系统： 真空系统： /min分子泵和旁路机组，中气压真空测控
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气路系统： 4路MFC控制
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样品支架系统： 基板直径φ，轴向调节距离：0～
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直流偏压源： V=300V I=100mA
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基片测温： K型热偶，测温范围0~
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